次世代半導体露光装置でキヤノンは復権できるか?
はじめに
前回のノートで最先端半導体を製造するのを支えているEUV露光装置はオランダASML社の独占市場であることを書いた。Intelは2023年末に世界初の次世代のEUV露光であるHigh NA EUV露光装置を導入して2nmプロセスノード以降の製造でTSMCからシェア奪還しファウンドリ世界第2位を狙っている。
この分野において日本の半導体露光装置メーカーのニコンやキヤノンは遅れをとってきたが、特にキヤノンはArF光やEUV光を使った先端露光装置の開発から撤退したが、キ