⇨ TOPPAN・大日印、半導体向けフォトマスク微細化加速 半導体回路の原板となるフォトマスクのメーカーが技術開発を加速する。 •ＴＯＰＰＡＮは回路線幅２ナノメートル •大日本印刷は３ナノメートル ラピダスは北海道、TSMCは九州 https://newswitch.jp/p/39665
