藤巻隆
⇨ TOPPAN・大日印、半導体向けフォトマスク微細化加速

半導体回路の原板となるフォトマスクのメーカーが技術開発を加速する。

•ＴＯＰＰＡＮは回路線幅２ナノメートル
•大日本印刷は３ナノメートル
ラピダスは北海道、TSMCは九州
https://newswitch.jp/p/39665
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