先端半導体に使われる『極端紫外線』とは…実は『軟X線』もっとも厄介なX線で人体に吸収しやすく、ヤバい

　ナノルール（最先端半導体）の半導体の製造工程では、EUV露光装置が用いられる。EUV露光とは、波長が13.5nmの極端紫外線（Extreme Ultraviolet：EUV）を用いた半導体露光技術のこと。
　EUVの波長は軟X線の一部であるが、新たに研究補助を申請する際には　「X線」という名称が使えなかったので改めて「EUV」の名称で研究開発資金の援助を申請したので、呼称が「EUV」に変更されたとされる。
　なにやら、『X線』と聞くと身構えるだろうが、『極端紫外線』（EUV)といわれるとここで意味は分からなくなりそうである。
　エネルギーの低い透過力の弱いX線を軟X線といいます。
　早い話が、我々が聞きなれた言葉で言えば、X線の範疇なのである。
　★★軟X線　透過力が小さく、物質内で吸収される割合が大きいので人体
　　　には有害とされている
ここまで聞けばおおよそ気を付けなければならない・・と気づくはずです。
　半導体工場で働く人達がどのような影響を受けるのか、十分に評価して安全性を担保しなければ、工場従業員になる可能性のある人たちの健康を守ることは出来ない。
　半導体製造に従事する人達について
『血液がんの非ホジキンリンパ腫では、死亡の危険が最大で3.68倍も高かった。』
と報告されている国もあることを肝に銘じておく必要がある。