EUVリソグラフィ

ASMLの2020年Q2決算を読み解く~EUV露光装置の大本命銘柄~

今回は半導体露光装置世界最大手ASMLの決算を見ていきます。

ASMLは次世代の半導体露光技術であるEUV露光に関してはオンリーワンの企業であり、同社の動向をみることで今後の半導体製造装置業界および半導体業界の全体的な動きが見えてくる企業でもあります。

なお、ASMLという会社についての説明は以前の記事にて行っていますので省きます。(無料部分で触れていますので、よろしければごらんください。)

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HOYAの2019年Q3決算を読み解く~EUV向けマスクブランクス出荷が本格化

今回はHOYAの決算をみていきます。

HOYAはコンタクトレンズ、メガネレンズなど光学機器・ガラスの大手メーカーです。

また同社は医療用レンズ、エレクトロニクス分野にも重点をおいて開発を続けており、半導体製造におけるマスクブランクスにおいて最大手となっています。

近年、ASMLのEUV露光装置を利用した半導体の微細化製造プロセスを採用する企業が拡大の兆しをみせていますが、その製造プロセスにお

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レーザーテックの2019年Q3決算(1月~3月)を読み解く~EUVマスクブランクス検査装置で独占的シェア~

今回はレーザーテックの決算をみていきます。

同社は各種検査装置の製造を行っている企業です。

特に半導体製造に利用されるマスクブランクスの検査でほぼ100%のシェアを誇っているほか、エッチング後に作成されたフォトマスクの検査装置なども製造する企業です。

かなり地味なニッチ企業だったのですが、近年、技術の大幅な転換によって一気に需要が高まってきました。

今回はそういった技術動向の変化も含めて、

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ASMLの2020年Q1決算を読み解く~EUV露光装置の大本命銘柄~

今回は半導体露光装置世界最大手ASMLの決算を見ていきます。

ASMLは次世代の半導体露光技術であるEUV露光に関してはオンリーワンの企業であり、同社の動向をみることで今後の半導体製造装置業界および半導体業界の全体的な動きが見えてくる企業でもあります。

なお、ASMLという会社についての説明は以前の記事にて行っていますので省きます。(無料部分で触れていますので、よろしければごらんください。)

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HOYAの2019年Q3決算を読み解く~EUV向けマスクブランクス出荷が本格化

今回はHOYAの決算をみていきます。

HOYAはコンタクトレンズ、メガネレンズなど光学機器・ガラスの大手メーカーです。

また同社は医療用レンズ、エレクトロニクス分野にも重点をおいて開発を続けており、半導体製造におけるマスクブランクスにおいて最大手となっています。

近年、ASMLのEUV露光装置を利用した半導体の微細化製造プロセスを採用する企業が拡大の兆しをみせていますが、その製造プロセスにお

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HOYAの2019年Q2決算を読み解く~EUV向けマスクブランクス出荷が本格化

今回はHOYAの決算をみていきます。

HOYAはコンタクトレンズ、メガネレンズなど光学機器・ガラスの大手メーカーです。

また同社は医療用レンズ、エレクトロニクス分野にも重点をおいて開発を続けており、半導体製造におけるマスクブランクスにおいて最大手となっています。

近年、ASMLのEUV露光装置を利用した半導体の微細化製造プロセスを採用する企業が拡大の兆しをみせていますが、その製造プロセスにお

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ASMLの2019年Q3決算を読み解く~EUV露光装置の大本命銘柄~

今回は半導体露光装置世界最大手ASMLの決算を見ていきます。

ASMLは次世代の半導体露光技術であるEUV露光に関してはオンリーワンの企業であり、同社の動向をみることで今後の半導体製造装置業界および半導体業界の全体的な動きが見えてくる企業でもあります。

なお、ASMLという会社についての説明は以前の記事にて行っていますので省きます。(無料部分で触れていますので、よろしければごらんください。)

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ASMLの2019年Q2決算を読む

今回は半導体露光装置世界最大手ASMLの決算を見ていきます。

ASMLは次世代の半導体露光技術であるEUV露光に関してはオンリーワンの企業であり、同社の動向をみることで今後の半導体製造装置業界および半導体業界の全体的な動きが見えてくる企業でもあります。

なお、ASMLという会社についての説明は以前の記事にて行っていますので省きます。(無料部分で触れていますので、よろしければごらんください。)

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EUVリソグラフィについて

EUVリソグラフィについてまとめてみました。

半導体プロセスについて

半導体プロセスについては以下のサイトでまとめられているので参考にしてほしい
https://www.screen.co.jp/spe/technical/process.html

EUVリソグラフィと従来のリソグラフィとの違い

EUVリソグラフィとは
極紫外線(13.5nm)にて露光するリソグラフィ技術だ。
現在オランダ

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