🟦大日本印刷2nm世代フォトマスク開発を本格開始

DNPはEUV露光に対応した2nm世代フォトマスクの開発を本格的に開始

2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速 | ニュース | DNP 大日本印刷

🟦大日本印刷2nm世代ロジック半導体向けフォトマスク製造プロセス開発を本格開始

　DNP(大日本印刷)は、2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始しました。半導体製造の最先端技術であるEUV露光に対応するものです。

• EUV露光：極端紫外線を用いた露光技術で、従来のArFよりも微細な回路形成が可能

• フォトマスク：半導体の回路パターンを光で転写するための原版

　DNPは、ラピダス株式会社が参画しているNEDOの「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画します。2025年度までに開発を完了し、2027年度に埼玉県上福岡工場で量産開始を目指しています。

🟦フォトマスク技術で世界をリード

　近年、最先端のロジック半導体ではEUV露光による生産が進んでいます。DNPは、2016年にフォトマスク専業メーカーとして世界で初めてマルチ電子ビームマスク描画装置を導入するなど、高い生産性と品質を備えた先端領域の半導体製造への対応を強化してきました。

　さらに、2nm世代以降を見据えた開発にも着手しており、ベルギーに本部を置く最先端の国際研究機関imecと次世代EUV向けフォトマスクの共同開発に関する契約を締結しました。

🟦まとめ

DNPは、半導体製造の最先端プロセスであるEUV露光に対応した2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始しました。2025年度までの開発完了と、2027年度の量産開始を目指します。

　DNPは富士通の子会社である新光電気を買収すると発表するなど、積極的に半導体分野への投資を進めています。これは、印刷業界の変革を象徴する動きと言えるでしょうね。