JX金属

JX金属が2024年10月8日に東京証券取引所への上場を申請しました。現在、JX金属はENEOSホールディングスの完全子会社ですが、上場後はENEOSの持ち株比率が50%未満になる見通しです。時価総額は7000億円を超えると予想されており、これは23日に上場予定の東京メトロを上回る大型上場となります。
JX金属は、上場を機に事業の軸足を資源・製錬から半導体材料に移す計画です。これにより、半導体材料の分野での競争力を強化し、持続可能な成長を目指しています。
この動きは、JX金属が技術立脚型企業への転身を図り、グローバル市場での競争力を高めるための重要なステップとなります。
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JX金属の上場は2025年3〜4月に予定されており、上場後はENEOSホールディングス（ENEOSHD）の持ち株比率が50%以上減少し、持ち分法適用会社となる見通しです12。この上場の狙いは、ENEOSHDが抱える「コングロマリット・ディスカウント」を解消することにあります。
コングロマリット・ディスカウントとは
コングロマリット・ディスカウントとは、多様な事業を持つ企業（コングロマリット）の株式が、各事業部門の価値の合計よりも割安に取引される現象を指します。これは、市場参加者が企業の多角化によるシナジー効果や経済的なメリットを適切に評価できないために起こります。
ENEOSHDの狙い
ENEOSHDは、石油精製、資源開発、金属などの多岐にわたる事業を抱えており、これが市場での評価を割り引かれる要因となっていました。JX金属の上場により、これらの事業を分離し、各事業の価値をより明確にすることで、コングロマリット・ディスカウントを解消し、企業価値を向上させることを目指しています。
この上場は、JX金属が半導体材料などの新しい分野に事業の軸足を移すための重要なステップでもあります

JX金属は、半導体製造に使用される金属の薄膜材料「スパッタリングターゲット」で世界シェアの約6割を占めています。現在、同社は既存の資源・製錬事業（ベース事業）から、半導体材料などの「フォーカス事業」へ経営資源を集中させています。
事業の現状と目標
営業利益: 現在、ベース事業とフォーカス事業の営業利益は数百億円規模で大差はありませんが、2040年までにフォーカス事業で2000億円の営業利益を目指しています。
市場シェア: 拡大する薄膜材料市場でシェアを維持し、成長を図っています。
具体的な取り組み
資源事業の縮小: チリのカセロネス銅鉱山の権益の一部をカナダ企業に売却するなど、資源事業を縮小しています。
新工場の建設: 茨城県ひたちなか市に1500億円を投じて薄膜材料の新工場を建設中で、2025年度中に一部の建屋で稼働を開始する予定です。将来的には500人を雇用し、すでに数十人の雇用を開始しています。
技術研修: 北茨城市の既存工場で新規従業員向けの技術研修を進めています。
これらの取り組みにより、JX金属は半導体材料分野での競争力を強化し、持続可能な成長を目指しています。

JX金属は、シェアの維持と成長を目指して、設備投資や技術革新に注力しています。幹部のコメントによると、大量生産を安定供給する装置産業と、試行錯誤を繰り返して成功を目指す成長産業では、判断基準が異なるとのことです。従来の資源・製錬事業は装置産業としてENEOSとの親和性がありましたが、半導体材料を中心に据えることで独立を決め、2023年5月から準備を進めてきました。
JX金属の歴史
1905年: 日立鉱山の開業を源流とする。
1929年: 日産コンツェルンの鉱業部門が分離独立し、日本鉱業として誕生。
2010年: 新日本石油と日鉱金属（現JX金属）を傘下に持つ新日鉱HDが経営統合し、JXHD（現ENEOSHD）が発足。
上場の背景と意義
JX金属の上場は、2025年3〜4月に予定されており、上場後はENEOSHDの持ち株比率が50%以上減少し、持ち分法適用会社となる見通しです。この上場の狙いは、ENEOSHDが抱える「コングロマリット・ディスカウント」を解消し、企業価値を向上させることです。
東京メトロとの比較
東京メトロは2023年10月23日に東証プライム市場に上場する予定で、仮条件に基づく時価総額は6391億〜6972億円とされています。JX金属の時価総額が7000億円以上になると予想されており、これを上回る大型上場となります。
JX金属の上場は、同社が半導体材料分野での競争力を強化し、持続可能な成長を目指すための重要なステップとなります。

JX金属の半導体材料について詳しく教えて

JX金属は、半導体材料分野で多岐にわたる製品を提供しており、特にスパッタリングターゲットの分野で世界シェアの約6割を占めています。以下に、JX金属の主要な半導体材料について詳しく説明します。
主な半導体材料
スパッタリングターゲット:
用途: 半導体チップの配線や薄膜形成に使用されます。
種類: アルミニウム・スカンジウム（AlSc）ターゲット、磁性材料用ターゲット、透明導電膜用ターゲット、光学膜用ターゲットなど1。
高純度材料:
高純度塩化物: 半導体製造プロセスで使用される高純度の化学物質。
Pbフリーピエゾ粉末材料: 環境に配慮した鉛フリーの圧電材料
リードフレーム用銅合金:
用途: 半導体パッケージングに使用される高機能銅合金
CVD・ALD材料:
用途: 化学気相成長（CVD）および原子層堆積（ALD）プロセスで使用される材料。
生産拠点: 日立事業所白銀地区および東邦チタニウムの茅ヶ崎工場に生産設備を設置し、次世代半導体向けの材料を本格生産しています。
事業戦略と設備投資
新工場の建設: 茨城県ひたちなか市に1500億円を投じて新工場を建設中で、2025年度中に一部の建屋で稼働を開始する予定です
技術革新: 新素材の開発や既存材料の改良を進め、半導体製造プロセスの効率化と性能向上を図っています。
企業のビジョン
JX金属は、半導体材料分野での競争力を強化し、持続可能な成長を目指しています。特に、生成AIや高性能コンピューティング（HPC）向けの需要増加に対応するため、技術革新と設備投資を積極的に行っています
これらの取り組みにより、JX金属は半導体材料市場でのリーダーシップを維持し、さらなる成長を目指しています。