【基礎用語解説】洗浄
製造中の半導体デバイスやウエハーから不純物や残留物を除去し、表面を清浄化する工程です。
ウェーハに少しでも汚れがあると回路に欠陥が生じてしまうため、微細なゴミ、金属汚染、有機汚染、油脂などのあらゆる汚れを除去します。半導体の製造プロセスの中で洗浄工程は複数回存在し、洗浄工程が25%～30%を占めるとも言われています。
汚れの除去のために、薬液の温度や濃度、噴射タイミング等の細かい設定が必要となります。また、基本的には使ったら廃棄となるために、環境負荷の観点から、薬液の使用量低減や材料そのものの改良などが絶えず求められています。
洗浄装置は日本メーカーが高いシェアを持っている分野であり、日本全体で69.4％を占めています。具体的には、スクリーン、東京エレクトロン、芝浦メカトロニクスなどが主要なプレイヤーとして挙げられます。
参考文献
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